El Instituto Nacional de Propiedad Industrial (INAPI) presentó en la X Conferencia Foro del Litio 2026 un enfoque sobre el uso estratégico de la propiedad industrial, orientado a transformar los documentos de propiedad industrial en una herramienta abierta de inteligencia tecnológica y de toma de decisiones para el sector. La presentación, realizada el 11 de septiembre de 2026 en el Hotel Sheraton Santiago y titulada «Propiedad Industrial como Motor de Innovación: Mapeo de Tecnologías Clave en la Cadena del Litio», estuvo a cargo del Director Nacional de INAPI, Esteban Figueroa, ante autoridades, empresas mineras, inversionistas, academia y representantes de la sociedad civil.
UNA PLATAFORMA PÚBLICA Y GRATUITA
El eje de la exposición fue la Plataforma de Información Tecnológica de Patentes para el Desarrollo Productivo Sostenible, un bien público digital disponible en dps.inapi.cl y desarrollado por INAPI en conjunto con el Ministerio de Economía, Fomento y Turismo. La herramienta reúne reportes, dashboards y mapas de tendencias dedicados exclusivamente a la cadena de valor del litio, desde la extracción hasta las baterías y el almacenamiento, y abarca además áreas estratégicas como hidrógeno verde, manufactura sostenible y cambio climático. Su propósito declarado es transformar los documentos de propiedad industrial en un insumo abierto de inteligencia tecnológica y de toma de decisiones para el sector.
DE MURO LEGAL A FUENTE DE INTELIGENCIA
Figueroa fue directo al punto. «Durante décadas ha existido la percepción de que una patente es únicamente un muro de protección o una barrera defensiva para bloquear a la competencia», sostuvo, para luego recordar que el sistema internacional exige la divulgación técnica completa de cada invención a cambio de la exclusividad. El desafío que planteó es pasar de mirar la patente como un muro legal a utilizarla como una fuente global de inteligencia tecnológica accesible para todo el país.
El jefe de servicio agregó que las solicitudes de patentes se publican a nivel internacional, por regla general, 18 meses después de su presentación. Esa regla entrega a las instituciones y empresas una ventana de anticipación tecnológica de dos a tres años frente a la llegada comercial de los productos al mercado.
LOS NÚMEROS DE LA EXTRACCIÓN DIRECTA DE LITIO
Para aterrizar ese potencial, INAPI presentó los resultados de un mapeo centrado en la Extracción Directa de Litio (EDL), técnica sensible si se considera que Chile concentra entre el 25% y el 36% de las reservas mundiales del mineral. El análisis identificó 660 desarrollos tecnológicos y 1.594 solicitudes de protección a nivel global.
Entre las tendencias detectadas aparecen la creciente integración vertical de los grandes fabricantes de baterías, como la firma CATL, y el posicionamiento de Chile como séptimo destino mundial de solicitudes en esta materia, con 127 presentaciones. Toda esta información en materia de vigilancia tecnológica aplicada al sector se encuentra disponible de forma gratuita en la plataforma dps.inapi.cl.
LA BRECHA DE LA INNOVACIÓN LOCAL
El estudio también evidenció que solo 25 de esas solicitudes internacionales provienen de inventores locales. Esa distancia entre el atractivo del territorio y la producción nacional de tecnología abre, según la propia autoridad, el desafío de impulsar innovación propia. En ese terreno el mapeo destaca a la empresa nacional SQM como primer solicitante global en tecnologías de concentración de salmueras mediante hidratos.
Cabe recordar que la iniciativa forma parte del trabajo conjunto entre INAPI y el Ministerio de Economía, Fomento y Turismo, y que su alcance no se limita al litio: la plataforma abarca también áreas estratégicas como hidrógeno verde, manufactura sostenible y cambio climático.
Fuente: Instituto Nacional de Propiedad Industrial
Documento original: https://www.inapi.cl/sala-de-prensa/detalle-noticia/inapi-expone-sobre-el-rol-estrategico-de-las-patentes-en-foro-internacional-del-litio
Nota del Editor Fotografía referencial generada por Inteligencia Artificial.
Acerca del Autor
